本发明涉及一种基于硅氧烷修饰光致发光物质的压力敏感涂料及其制备的涂层。所述压力敏感涂料包括带有甲氧基
硅烷和/或乙氧基硅烷官能团的染料、任选地硅氧烷前驱体和溶剂。本发明的压力敏感涂料的涂布方式简单、可制备超薄涂层;涂层透明,适用于工作面/测试面周围空间狭小、光学成像或光学测量设备放置困难的使用环境,在配合使用透明基底或无基底的情况下,使用透明压力敏感涂层可扩大观察设备的摆放范围,方便实验装置的摆放;同时,化学键键合染料的方法能够提高涂层的光稳定性,延长涂层使用周期,甚至可提高涂层对压力的响应速度。本发明可较大的降低压力敏感涂料对模型形状、测试区域、光路布置等的限制,拓宽压力敏感涂料的应用范围。
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“基于硅氧烷修饰光致发光物质的压力敏感涂料及其制备的涂层” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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