本公开的方法包括:工序(I),对聚合物膜(1)照射由在回旋加速器中加速后的离子(2)构成的离子束,从而形成经该离子束中的离子碰撞后的聚合物膜;和工序(II),对在工序(I)中形成的聚合物膜进行化学蚀刻,从而在聚合物膜中形成与离子碰撞的轨迹(3)对应的开口(4b)和/或通孔(4a)。在工序(I)中,在离子束的路径上的聚合物膜的上游和/或下游检测离子束的束电流值,并且基于检测出的束电流值控制离子束对聚合物膜的照射条件,使得离子对聚合物膜的照射密度为设定值。本公开的方法适合于多孔聚合物膜的工业生产。
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