本发明涉及光学镀膜技术领域,尤其是一种行星转动镀膜装置的均匀性模拟和测试方法,该方法在已知蒸发源和行星夹具结构的条件下,可实现对真空镀膜均匀性的准确模拟,以及对镀膜均匀性的快速优化。将蒸发源视作具有一定倾斜角度的大口径平面靶,膜料通过物理或化学气相沉积,在平面行星夹具的基底材料表面形成薄膜,首先测试夹具在任一高度下的镀膜均匀性,再通过模拟计算来确定蒸发源的蒸发特性,进而以模拟方法来确定出夹具的最佳位置,最后按模拟的最佳位置对均匀性进行第二次实际测试。该方法避免了在镀膜均匀性测试过程中反复多次调节结构位置,仅需根据模拟和计算,便能确定镀膜均匀性的最佳位置,具有简便快捷、操作性强的优点。
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