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氧化物的刻蚀工艺的监测方法

1075   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:25:18
一种氧化物的刻蚀工艺的监测方法，所述方法包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底的表面形成有氧化物；刻蚀去除所述氧化物的至少一部分；采用化学溶液清洗所述半导体衬底的表面，所述化学溶液能够与所述半导体衬底反应，而未能与所述氧化物反应；检测清洗后的半导体衬底的表面，以确定是否存在残留的氧化物。本发明方案可以更准确地检测到氧化物刻蚀缺陷，从而及时地确认刻蚀工艺的异常状况，有助于保证产品良率。
声明：
“氧化物的刻蚀工艺的监测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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