本发明提供一种滑片监测系统及监测方法,用于化学机械抛光系统,滑片监测系统包括:图像获取模块,用于获取监测区域的图像;数据压缩模块,所述数据压缩模块和所述图像获取模块通信连接,用于接收所述图像获取模块获取的图像并对图像进行二值化压缩;图像分析模块,所述图像分析模块和所述数据压缩模块通信连接,用于对二值化压缩后的图像的像素值进行分析,判断化学机械抛光系统是否发生滑片或碎片。利用上述的滑片监测系统,能够实时的、准确的监测到是否发生滑片或碎片,避免由于滑片或碎片产生的细小颗粒影响之后所有晶圆的全局平坦化,甚至对晶圆本身产生不可逆的影响的问题,从而提升产品的良率。
声明:
“滑片监测系统及监测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)