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晶圆的化学机械研磨装置

1149   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:01:14
一种晶圆的化学机械研磨装置,其特征是:它的研磨平台具有发射特定光线的光源发射器及侦测经由晶圆所反射的特定光线的光线侦测器;设置于研磨平台上的研磨垫具有第一开口;透光构件拆装式地设置于该第一开口;研浆供应系统供应研浆至研磨垫表面;旋转载具固持并旋转晶圆,晶圆表面与研浆和研磨垫接触进行化学机械研磨制程。具有简化更换研磨垫的步骤、降低生产成本及有效解决因为渗水而造成研磨终点误判的功效。
声明：
“晶圆的化学机械研磨装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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