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化学机械抛光装置

1034   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:00:44
本实用新型涉及一种化学机械抛光装置，为了制作多个元件，对隔着间隔配置上述元件的晶片的抛光层进行抛光，包括：抛光平板，上述抛光平板的上表面覆盖有抛光垫并进行自转，上述抛光垫与上述晶片的上述抛光层相接触；以及光传感器，向上述晶片的抛光面照射光，从而检测上述晶片的抛光层的厚度，上述光的斑点大小的直径大于上述元件的宽度和长度中的至少一个，由此，从以扩大的面积向抛光层入射而反射的受光信号准确地检测抛光层的厚度。
声明：
“化学机械抛光装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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