本发明涉及用于分析测量介质的测量设备和用于确定分析值的方法,测量设备包括:探头壳体;辐射源;耦合和去耦光学器件,具有布置在探头壳体中的至少一个测量窗口,并且将辐射源的辐射耦合到测量区域中,测量区域布置在探头壳体外部并且测量介质位于测量区域中,并且将测量辐射从测量区域去耦;接收装置,通过耦合和去耦光学器件检测从测量区域去耦的测量辐射并且从检测到的测量辐射生成输出数据;至少一个附加物理或化学传感器,集成在探头壳体中并且检测测量介质的被测变量并且将被测变量的值输出作为测量信号;和电子测量单元,连接到接收装置并且收集和处理接收装置的输出数据,其中电子测量单元连接到附加物理或化学传感器并且收集和处理附加物理或化学传感器的测量信号。
声明:
“用于分析测量介质的测量设备和用于确定分析值的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)