本发明涉及蚀刻技术领域,提供一种金属铜表面蚀刻工艺,其步骤如下:表面微蚀处理;图案涂覆;蚀刻;表面防腐处理。其中,利用微蚀清洗剂在以下清洁条件下对铜表面进行处理,清洗温度为20~30℃,喷淋压力为1.0~1.5kg/cm2,清洗时间为30~60s;图案涂覆的步骤包括压膜、冷却暂存、曝光、撕膜、显影、液洗以及干燥;蚀刻包括一次蚀刻、补偿蚀刻、清洗、蓬松以及退膜;利用表面处理药剂在以下防腐条件下对铜表面进行处理,表面处理药剂的浓度为20%~100%,使用温度为20~30℃,喷淋压力为1.0~1.5kg/cm2,清洗时间为30~60s。本发明提供的金属铜表面蚀刻工艺,可避免金属铜提前氧化腐蚀而出现残次品,从而提高成品的良率。
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