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本申请适用于半导体材料技术领域,提供了氧化镓单晶制备方法,该方法包括:将氧化镓籽晶切割为长方体,并将长方体氧化镓籽晶的底部加工为楔形,得到第一氧化镓籽晶;将第一氧化镓籽晶依次进行退火和表面处理,得到第二氧化镓籽晶;在进行引晶时,将第二氧化镓籽晶的下部下降至与熔体接触,之后依次进行提拉、放肩、等径、收尾和降温工序,得到氧化镓单晶。本申请提高氧化镓结晶的质量、降低缺陷浓度,减少多晶的风险。
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