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阮绍勇,于2007年4月进入贵阳铝镁设计研究院有限公司,多年来从事铝电解的设计工作,主要研究方向为铝电解槽电磁场、磁流体稳定性、电解铝设计等。担任过国内外多个电解铝工程项目的总设计师,参与的工程和科研项目获多个省部、协会级工程建设和科学技术进步奖,参编《有色金属炉窑设计手册》等书籍,发表多篇论文于国家核心期刊和国际学术会议。
胡国静 毕业于北京科技大学有色金属冶金专业,致力于碳素及金属材料高温防氧化技术、芯片超高纯金属靶材、新型电化学钛冶金、钛金属部件粉末冶金制备技术等多项技术研发,授权12项发明专利,发表SCI论文5篇,其中预焙阳极防氧化功能陶瓷涂层和芯片制造用超高纯金属靶材相关技术指标全面超过欧美同类产品,处于领先水平,并进入产业化阶段。
刘东伟,高级工程师,现任北京世维通光智能科技有限公司总工程师。从事光纤电流传感器技术研发和应用推广20年。
郑茂盛,西北大学教授(2级),国务院政府津贴专家,德国洪堡学者,霍英东奖获得者,曾获中国航空工业总公司科技进步二等奖,国家教委科技进步三等奖等。长期从事多目标优化及材料技术,出版专著5部,发表学术论文300多篇。
苏自伟,中铝郑州有色金属研究院炭素专业高级工程师,一级研究员,主持、参与开展炭素科技研发项目20多项,获得省部级科技成果奖励一等奖2项,二等奖7项,获授权专利12项,其中授权发明专利9项,发表论文十余篇。
标题:毛秋云
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