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基于铜渣的红外辐射涂层及其性能研究，杨爽，武汉科技大学，铜渣红外辐射涂层的2.5µm~25µm发射率随热处理温度增加先增大后减小，热处理温度为1200℃时，达到最大值0.922；1300℃时，近红外0.78~2.5µm发射率最高；增加热处理温度能够促进涂层晶粒生长，结构完整，使发射率增加，但热处理超过1200 ℃时，涂层中Fe2SiO4颗粒分解成小颗粒，产生较多孔隙，使发射率降低。
基于铜渣的红外辐射涂层及其性能研究，杨爽，武汉科技大学，铜渣红外辐射涂层的2.5µm~25µm发射率随热处理温度增加先增大后减小，热处理温度为1200℃时，达到最大值0.922；1300℃时，近红外0.78~2.5µm发射率最高；增加热处理温度能够促进涂层晶粒生长，结构完整，使发射率增加，但热处理超过1200 ℃时，涂层中Fe2SiO4颗粒分解成小颗粒，产生较多孔隙，使发射率降低。 收起+
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