技术
摘要本文提出了一种新的基于材料光致变色特性来制造超高分辨率纳米结构技术这种方法可以大大简化目前复杂的超高分辨率加工配置同时通过理论模拟圆环光束的大小对聚焦区域光强分布的影响发现当环状聚焦光大小为60nm光致变色层厚度为01m时可以实现87nm的纳米刻针系统
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陕西 - 西安
2024年06月28日 ~ 30日
